Se han producido recubrimientos duros de TiN/DLC en forma de bicapa con películas delgadas de nitruro de titanio (TiN) y de carbón amorfo (DLC) depositadas sobre sustratos de silicio con orientación (100), utilizando la técnica de deposición física de vapor asistida por plasma (PAPVD) por arco pulsado. Se tomaron imágenes por medio de microscopia de barrido por sonda (SPM), en el modo C-AFM, lográndose observar las capas de TiN y DLC, y en el modo LFM se hicieron análisis cualitativos de fricción de las capas de TiN y DLC. Por medio de es-pectroscopia infrarroja por transformada de Fourier (FTIR) se encontraron las vibraciones si-métrica y asimétrica de los enlaces sp3 del CH2 de la capa de DLC depositada sobre KCl. Se determino la composición química de las capas usando espectroscopia fotoelectrónica de rayos X (XPS), además se encontró la energía de enlace del C1s.

Hard coatings of TiN/DLC in bilayers had been produced. The films were deposited on silicon oriented substrates (100), using the plasma assisted physical vapor deposition (PAPVD) tech-nique by pulsed arc. Images by means of Scanning Probe Microscopy (SPM) were taken. by C-AFM mode it was observed the TiN and DLC layers. And using LFM mode it was realized qualitative analysis of the films friction. By means of Fourier Transform Infrared Spectroscopy (FTIR) it was found the symmetric and asymmetric vibration modes of the sp3 bonding of CH2 in the DLC layer grown on KCl substrates. It was determined the chemical composition of the layers using X photoelectron Spectroscopy (XPS). Moreover, it was found the binding energy of C1s.