En este trabajo se muestran los resultados obtenidos en el crecimiento de láminas delgadas de TiN, en fase reactiva sobre sustratos de acero AISI 420, mediante la técnica de magnetrón dc. Las películas obtenidas fueron logradas de un blanco de Ti (99,9) a una presión total de 7x10^-3 mbar en una atmósfera de N₂ y Ar y a una potencia incidente sobre el blanco de 200 W . El parámetro de estudio fue la relación de flujos de N₂ y Ar. Los resultados obtenidos hasta la fecha muestran que la fase estequiometrica del TiN se logra en la relación de mezcla f N₂/fAr = 2/98. Este resultado fue obtenido a través del estudio de difracción de rayos X y de un análisis cualitativo del color que presentan las láminas en función de la relación de mezclas estudiadas.

In this work are showed the results obtained in the growth of thin films of TiN, in reactive phase on steel substratum AISI 420, by dc magnetron sputtering. The obtained films were achieved of a target of Ti (99,9) to a total pressure of 7x10^-3 mbar in an atmosphere of N₂ and Ar and to an incident power on the target of 200 W. The study parameter was the relationship of flows of N₂ and Ar. The results obtained so far show that the stoichiometric phase of the TiN is achieved in the mixture relationship. This result was obtained by X -rays diffraction and of a qualitative analysis of the color that present the films in function of the relationship of studied mixtures.